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A China deu mais um passo em sua estratégia de fortalecer a indústria nacional de semicondutores ao iniciar a produção em escala de máquinas de litografia DUV por imersão (Deep Ultraviolet), tecnologia considerada essencial para a fabricação de chips de alta complexidade. A informação foi revelada por uma fonte ligada ao projeto e representa um avanço importante na busca do país por reduzir a dependência de fornecedores estrangeiros.

Embora a novidade reforce o plano chinês de autossuficiência tecnológica, especialistas avaliam que a iniciativa ainda não representa uma ameaça imediata à liderança da empresa holandesa ASML, referência mundial nesse segmento.

Empresa estatal lidera desenvolvimento das máquinas DUV

A produção está sendo conduzida pela Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, companhia estatal criada em 2023 e ainda pouco conhecida fora da China.

Segundo a fonte, a empresa incorporou equipes de importantes startups chinesas especializadas em litografia, incluindo profissionais da Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) e da Yuliangsheng, ligada à fabricante de equipamentos SiCarrier, apoiada pela Huawei.

A expectativa é fabricar cerca de cinco equipamentos ainda em 2026 e aproximadamente 20 unidades em 2027, conforme informou o portal especializado The Information.

Equipamentos serão entregues a fabricantes chinesas de chips

As primeiras máquinas deverão ser fornecidas ainda este ano para algumas das principais empresas chinesas do setor, como a Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), a Hua Hong Semiconductor e a fabricante de memórias ChangXin Memory Technologies (CXMT).

Mesmo assim, a tecnologia nacional ainda passará por testes antes de alcançar o desempenho das soluções produzidas pela ASML.

Tecnologia é estratégica para a indústria de semicondutores

As máquinas de litografia DUV por imersão utilizam uma fina camada de água entre a lente de projeção e a pastilha de silício, permitindo a gravação de circuitos mais compactos do que os sistemas convencionais.

Esse tipo de equipamento é amplamente utilizado na produção de diversos tipos de chips e também pode fabricar semicondutores mais avançados por meio da técnica conhecida como múltiplos padrões (multiple patterning), que realiza sucessivas exposições da mesma camada para aumentar a precisão.

Projeto fortalece plano chinês de autossuficiência

O investimento faz parte da política de autossuficiência em semicondutores, considerada uma das prioridades estratégicas do governo do presidente Xi Jinping.

Nos últimos anos, a China enfrentou restrições impostas pelos Estados Unidos e pelos Países Baixos para adquirir equipamentos de litografia mais avançados, especialmente os sistemas EUV (Extreme Ultraviolet) produzidos pela ASML.

Caso as sanções internacionais sejam ampliadas, a disponibilidade de máquinas desenvolvidas localmente poderá reduzir a dependência da indústria chinesa de fornecedores estrangeiros e garantir maior continuidade na produção de chips.

ASML segue dominante no mercado global

Apesar da reação inicial do mercado financeiro, analistas acreditam que o novo projeto chinês não deverá afetar significativamente os resultados da ASML no médio prazo.

Especialistas do JP Morgan Chase destacam que produzir algumas unidades de equipamentos DUV é apenas o primeiro passo. Segundo eles, transformar essas máquinas em soluções capazes de atender à fabricação em larga escala exige elevados níveis de produtividade, confiabilidade, precisão e estabilidade operacional durante milhares de ciclos de produção.

Mesmo com as restrições comerciais, a China continua sendo um dos principais mercados da fabricante holandesa, respondendo por cerca de 16% das vendas líquidas da ASML no primeiro semestre deste ano.

Empresa ainda mantém perfil discreto

Criada em agosto de 2023, a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group possui capital registrado de 7 bilhões de yuans (cerca de US$ 1 bilhão) e tem como acionistas apenas duas entidades estatais ligadas ao governo de Xangai.

Até o momento, a empresa não possui site oficial nem divulga informações públicas sobre suas operações, reforçando o caráter estratégico do projeto para a política industrial chinesa.

FONTE: Reuters
TEXTO: Redação
IMAGEM:  Intel Corporation/Handout via REUTERS